rk000000186

Высокоогнеупорные ситаллы имеют состав, %: 20-35 С520; 25-40 А І20 3; 30-35 5ІОг Основная кристаллическая фаза - твердый раствор поллюцита С$20 -А І20 3-45і02. Стекло кристаллизуется без катализатора, его варку проводят в закрытых родиевых тиглях в электропечи при 1850-2000°С, с выдержкой в течение 8 ч. Режим кристаллизации: 1-я ступень - 800-1000°С в течение 2-6 ч, 2-я сту- пень - 1200-1600°С с выдержкой 1-8 ч. Ситалл сохраняет стабиль- ность размеров до 1550°С. Применяется для сердечников форм при литье никелькобальтовых сплавов. Фотоситаллы - это ситаллы, полученные из светочувствитель- ных стекол. Такие стекла содержат добавки, способные в результа- те облучения и термообработки вызвать в стекле избирательную или сплошную кристаллизацию. Для получения фоточувствитель- ных стекол пригодны многие силикатные составы, в которые вве- дены небольшие добавки светочувствительных металлов и сенси- билизаторов. К таким составам, например, относятся литийалю- мосиликатные, %: 73,5-80 5і02; 2-10 АІ20 3, 9-18 К20, с добавкой 0,002 АдСІ (фоточувствительный металл), 0,02 Се02 (сенсибилизатор). Исходное стекло представляет собой аморфную силикатную мат- рицу, в которой равномерно распределены ионы светочувствитель- ных металлов (Аи, Ад и др.) и сенсибилизаторов (Сеэ\ 5п4*, 5Ь3* и др.). В результате облучения в нем появляются свободные элект- роны (фотоэлектроны), испускаемые светочувствительными иона- ми под воздействием энергии коротковолнового излучения. Нали- чие фотоэлектронов, временно локализованных вблизи ионов металла и в структурных дефектах, создает метастабильное состо- яние, которое устойчиво сохраняется при обычной температуре (образование скрытого изображения). При нагревании и умень- шении вязкости стекла фотоэлектроны присоединяются к ионам металлов с образованием свободных атомов; в последующем эти атомы группируются в ядра, которые растут (проявление с обра- зованием явного изображения). Термообработку с целью прояв- ления изображения следует проводить по тщательно подобранно- му режиму. Фотоситаллы этого типа применяют для получения травлением различных панелей со сквозными отверстиями и дру- гих деталей (метод фотоформ); кристаллическая фаза в фотоси- таллах может полностью раствориться в НР за время, в течение которого растворение стекловидной фазы только начинается. 416