rk000000185

динамических пылеуловителях шлам поступает в шламо- сборник 7. Организация отдельной системы пылеулав- ливания на каждом участке обработки сырьевых мате- риалов (песок, известняк, доломнт, карбонат натрия и т. д.) позволяет использовать осажденные материалы в дальнейшем производственном процессе (шлам должен быть обезвожен и высушен). Эта схема может изменяться применительно к конк- ретным технологическим условиям в соответствии с компоновкой и режимом работы пылевыделяющего оборудования. При стекловарении наиболее важна очистка отходя- щих газов стекловаренных печей. Отходящие газы стекловаренных печей, содержащие ценные и вместе с тем вредные компоненты (соединения фтора, бора, свинца и т. п.) в твердом и газообразном виде, до последнего времени выбрасывались в атмосфе- ру без очистки. Трудность очистки этих газов связана с содержанием в них тонкодисперсных частиц при низ- ком влагосодержании, а также со значительным колеба- нием количества отходящих газов и их температуры (200—700 °С ). Кроме того, для очистки от соединений серы необходима предварительная химическая обработ- ка отходящих газов, обеспечивающая перевод этих со- единений в твердое состояние с последующим осажде- нием. Для очистки отходящих газов стекловареиных пе- чей используют сырой или мокрый способы. Иногда для обеспыливания отходящих газов применяют специаль- ные электрофильтры. Высокотемпературный пылеуловитель ПВТ (рис. 145) работает следующим образом. Подлежащие очистке га- зы через входной патрубок 9 поступают в камеру 8 объемно-испарительного охлаждения. Образовавшаяся паровоздушная смесь направляется в камеру 4 для окончательной очистки от пыли в высокотурбулентном слое пены, создаваемом над газораспределительной ре- шеткой 3. Очищенные от пыли газы освобождаются от капель воды в каплеотделителе 5 и через выходной патрубок 6 выбрасываются в атмосферу. Вода и улов- ленные частицы пыли из бункера камеры 4 подаются насосом 10 в форсунку 7, которой они распыляются в объеме очищаемого газа. Образующийся шлам из бун- кера камеры 8 стекает в отстойник /. Для поддержания постоянного уровня пены в камере 4 служит водоподпи-